[1] 건식 중화 처리: 반도체 제조 공정에서 사용되는 특수 재료가스는 인체 및 환경에 유해한 물질이 많으므로 공장 밖으로 배출하기 전에 중화 처리하는 것이 중요하다. 건식 처리는 중화 효과가 높고, TVL(threshold limit value, 최소 허용 노출 농도) 이하까지 중화가 가능하다. 또한 중화여부에 따라 색이 변색되는 검지제를 병용하여 중화제의 수명을 판단할 수 있다.

[2] 습식 중화 처리: 흡수액을 이용한 흡수식 중화는 종래보다 화학 산업 등에 넓게 사용되고 있다. 중화의 원리는 물 혹은 알카리, 산을 이용한 산화제를 이용한 흡수법, 또는 과망간산칼륨 등의 산화제를 이용한 산화흡수법이 있다. 흡수액은 중화를 하고자 하는 가스의 성질에 따라 선정된다. 가수분해성, 산성가스 등에 대해서는 물 또는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알카리 수용액을 사용하는 경우가 많다. 알진, 포스핀 등의 환원성가스에 대하여는 과망간산칼륨, 차아염소산나트륨이 사용된다. 장치는 중화율을 향상시키기 위하여 기-액 접촉면적 및 접촉시간이 크도록 연구되고 있지만, 습식 중화 방법에서는 TLV값 이하까지 중화하기 위해서는 장치를 대형으로 하던가 유통하는 중화가스 농도를 낮게 조절하지 않으면 안된다. 또 비소를 포함한 배수의 처리와 SiO2의 생성에 의한 관막힘이 문제가 된다.

[3] 연소식 중화 처리: 실란 등과 같은 가연성 가스에 대하여 연소법이 사용된다. 중화방법으로는 자연발화를 이용한 자연 연소법, 연소버너에 의한 강제 연소법, 히터가열에 의한 가열 연소법이 있다. 연소법에서는 연소 노즐의 연소에 따라 생성된 산화물이 흡착하여 노즐이 막히게 된다. 노즐에의 흡착을 방지하기 위하여 연소노즐을 2중 구조로 하고, 외측에 질소를 유통시키는 방법도 취해지고 있다. 또, 가루 형태의 미세한 생성물에 대한 대책이 중요하며, 이것이 불충분하면 막힘의 원인이 된다.